世伟洛克低流量角形计量阀

世伟洛克低流量角形计量阀  

 流体系统对良品率潜力的影响。

流体和气体系统对良率的影响主要受到两个关键因素的影响：污染和腐蚀。

先，随着工艺晶体管的不断小型化，抗污染性已成为超高纯度生产环境中越来越重要的性能指标。即使是微不足道的微观外来颗粒也会引起重大问题。正确的流体系统组件可以帮助限制污染物进入芯片制造过程，从而有助于在生产过程中提高可用芯片的产量。

其次，随着半导体生产工艺越来越多地使用更具腐蚀性的工艺气体，这可能需要越来越高的工作温度，因此腐蚀可能性增大。由于需要更换这些系统中腐蚀的阀门、接头或卡套管而导致的任何停机都可能导致生产停顿并大大降低整体良品率。优异的耐腐蚀性可以帮助制造商避免此类停机的发生。安全也是这里的主要考量 - 系统组件运行不正常会导致潜在的危险泄漏。

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可以通过多种方式提高良品率，但是在半导体制造工艺的一个有时被忽视的领域中存在巨大的潜力：将反应性卤素气体从存储区输送到沉积室的关键流体系统和组件。随着对工艺条件的要求越来越苛刻，反应性气体变得越来越轻和更具腐蚀性，这些系统必须具备很高水平的性能 - 很大程度上取决于制造它们的材料。

在当今的半导体芯片生产环境中，低等级的不锈钢材料通常不具备必要的性能水平。以下解释了使用优质材料制成的流体系统组件如何有助于提高良品率，以及半导体制造商在不锈钢材料规格时应考虑的事项。